Installations disponibles sur la plate-forme IAP3

Réacteurs plasma multi-dipolaires

• Dépôts PACVD
• Gravure
• Dépôt par pulvérisation et co-pulvérisation assistée par plasma (PAPVD)
• Dépôt par procédé duplex PACVD et PAPVD

 Réacteur DECR

• Implantation ionique par immersion plasma 0-50 keV (PI³)

 Réacteur matriciel

• Dépôt PACVD
• Gravure

Réacteur d’études pour la production d'ions négatifs H^-

• Caractérisations par photo-détachement laser et sonde de Langmuir

 Réacteurs magnétron

• Dépôt par pulvérisation magnétron

 Réacteur hybride à usage mutualisé avec le laboratoire PCI (Polymères, Colloïdes, Interfaces)

• Traitement des poudres

 Décharge luminescente

• Formation pratique

 Bancs de mesures et de tests

• Banc de test pour technologies plasma
• Banc de mesures micro-onde
• Caractérisation électrique par sonde de Langmuir
• Banc de mesure de tension superficielle