Réacteurs plasma multi-dipolaires

  • Dépôts PACVD
  • Gravure
  • Dépôt par pulvérisation et co-pulvérisation assistée par plasma (PAPVD)
  • Dépôt par procédé duplex PACVD et PAPVD

 Réacteur DECR

  • Implantation ionique par immersion plasma 0-50 keV (PI3)

 Réacteur matriciel

  • Dépôt PACVD
  • Gravure

Réacteur d’études pour la production d'ions négatifs H-

  • Caractérisations par photo-détachement laser et sonde de Langmuir

 Réacteurs magnétron

  • Dépôt par pulvérisation magnétron

 Réacteur hybride à usage mutualisé avec le laboratoire PCI (Polymères, Colloïdes, Interfaces)

  • Traitement des poudres

 Décharge luminescente

  • Formation pratique

 Bancs de mesures et de tests

  • Banc de test pour technologies plasma
  • Banc de mesures micro-onde
  • Caractérisation électrique par sonde de Langmuir
  • Banc de mesure de tension superficielle