Principe des plasmas matriciels
- Distribution de sources élémentaires micro-onde indépendantes suivant un réseau plan
- Distribution des micro-ondes par des lignes coaxiales indépendantes alimentées à partir de sources à état solide ou par division de la puissance fournie par un générateur unique
- Production du plasma par absorption collisionnelle (B = 0)
- Source élémentaire formée par la section droite de l’extrémité d’une ligne coaxiale
Performances des plasmas matriciels
- Domaine de pression de 0,1 à 1 torr en argon (10 à 100 Pa)
- Densités de 1012 à 1013 cm-3 en argon
- Très bonne uniformité du plasma (indépendance des sources)
Avantages des plasmas matriciels
- Extension d’échelle des sources sans limitation
- Simplicité des sources élémentaires
- Réglage unique et définitif de l’adaptation d’impédance de chaque source
- Fiabilité (puissance limitée sur chaque source)
- Pas de limitation de la densité à la densité critique (pas de propagation des micro-ondes dans le plasma)
Articles et ouvrage de référence
- L. LATRASSE, A. LACOSTE, J. SIROU, J. PELLETIER, High density distributed microwave plasma sources in a matrix configuration : concept, design and performance, Plasma Sources Sci. Technol. 16, 7-12 (2007)
- LATRASSE Louis, thèse UJF, Conception, caractérisation et applications des plasmas micro-onde en configuration matricielle (Grenoble, novembre 2006)
- M. RAYAR, H. LE QUOC, A. LACOSTE, L. LATRASSE, J. PELLETIER, Characterization of hydrogen microwave plasmas produced by elementary sources in matrix configuration, Plasma Sources Sci. Technol. 18, 025013 (2009)
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Plasma matriciel d’argon
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