Principe des plasmas matriciels

  • Distribution de sources élémentaires micro-onde indépendantes suivant un réseau plan
  • Distribution des micro-ondes par des lignes coaxiales indépendantes alimentées à partir de sources à état solide ou par division de la puissance fournie par un générateur unique
  • Production du plasma par absorption collisionnelle (B = 0)
  • Source élémentaire formée par la section droite de l’extrémité d’une ligne coaxiale

Performances des plasmas matriciels

  • Domaine de pression de 0,1 à 1 torr en argon (10 à 100 Pa)
  • Densités de 1012 à 1013 cm-3 en argon
  • Très bonne uniformité du plasma (indépendance des sources)

Avantages des plasmas matriciels

  • Extension d’échelle des sources sans limitation
  • Simplicité des sources élémentaires
  • Réglage unique et définitif de l’adaptation d’impédance de chaque source
  • Fiabilité (puissance limitée sur chaque source)
  • Pas de limitation de la densité à la densité critique (pas de propagation des micro-ondes dans le plasma)

Articles et ouvrage de référence

  • L. LATRASSE, A. LACOSTE, J. SIROU, J. PELLETIER, High density distributed microwave plasma sources in a matrix configuration : concept, design and performance, Plasma Sources Sci. Technol. 16, 7-12 (2007)
  • LATRASSE Louis, thèse UJF, Conception, caractérisation et applications des plasmas micro-onde en configuration matricielle (Grenoble, novembre 2006)
  • M. RAYAR, H. LE QUOC, A. LACOSTE, L. LATRASSE, J. PELLETIER, Characterization of hydrogen microwave plasmas produced by elementary sources in matrix configuration, Plasma Sources Sci. Technol. 18, 025013 (2009)
Plasma matriciel d’argon
A gauche : faible puissance micro-onde - A droite : forte puissance micro-onde